Entwicklung "debris mitigation foil trap"

Aufgaben

  • Projektplanung und Projektkoordination
  • Auslegung und Konstruktion
  • FEM Modellierung
  • Budget- und Ressourcenplanung
  • Termingerechte Fertigung

Kunde

Xtreme technologies GmbH

Tin dump for Plasma Tin Source EUV-Lithography

Beheizter, Wärmeisolierter Vakuumkessel zur Entsorgung des Mediums Zinn aus dem Betrieb einer Plasma Tin Source.

 

Kunde: Ushio

Entwicklungsprogramme und Anwendung

In verschiedenen Lithographie Entwicklungsprogrammen, wie EUV1-Programm, SFET, MET oder UXE-Programm kommen unsere Komponenten in der Halbleitertechnologie zum Einsatz.

Eingesetzt werden unsere Komponenten bei Betreibern wie Intel, Sematech, USHIO, EIDEC, Nikon, Zeiss und anderen.

EUV-Source

Redesign eines Lampenkopfes kleiner Leistung, zum Einsatz in der EUV Lithographie.

 

  • Redesign
  • Konstruktion
  • Fertigung

Kunde

AixUV jetzt Research Instruments

 

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Kontakt

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Bürozeiten

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In Kooperation mit

Mitglied im Arbeitskreis Lasertechnik       AKL e.V.

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